折射率可調疏水型SiO2光學薄膜的制備研究

以正硅酸乙酯(TEOS)為有機醇鹽前驅體,采用溶膠-凝膠技術,通過控制制備條件,結合三甲基氯硅烷(TMCS)對SiO2膠粒表面的修飾過程,制備出折射率可調的疏水型SiO2薄膜.對薄膜采用了不同的后處理方式,研究了氨和水蒸氣混合氣體熱處理技術對薄膜疏水性能的影響.采用橢偏儀、FTIR和接觸角測試儀對薄膜的折射率、紅外特性、接觸角等的測試研究表明:疏水型SiO2薄膜的折射率可在1.35～1.20之間連續(xù)可調,與傳統(tǒng)熱處理相比,混合氣氛熱處理使薄膜的折射率略有增加,在所研究的范圍內(nèi)折射率平均增加0.02左右;SiO2膠粒表面的親水性OH基團可基本被非活性CH3基團代替,薄膜的疏水能力得到進一步提高;接觸角由未作表面修飾時的40°左右增加到表面修飾并結合混合氣氛熱處理的137°左右.

作 者： 馬建華 吳廣明 魏建東 程銀兵 孫琪 沈軍 王玨   作者單位： 同濟大學,波耳固體物理研究所,上海,200092  刊 名： 原子能科學技術  ISTIC EI PKU 英文刊名： ATOMIC ENERGY SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2002 36(4)  分類號： O484  關鍵詞： 溶膠-凝膠   SiO2疏水薄膜   表面修飾   氨處理  

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