Fe/Mo多層膜的微觀結(jié)構(gòu)與應力研究

本文采用電子束蒸鍍技術制備了Fe/Mo金屬多層膜,利用TEM等手段研究了Fe與Mo層厚度對薄膜微結(jié)構(gòu)應力的影響.Fe與Mo層厚度相差較大而Fe單層膜厚薄到1.2 nm時,較薄的Fe在較厚的Mo層上外延生長.隨著Mo厚度的變薄,Mo/Fe厚度比減少,Mo層沒有足夠的自由能約束Fe原子,Fe層形成穩(wěn)定的bcc結(jié)構(gòu).當Fe外延生長在Mo層上時,晶格畸變導致鐵鉬層間產(chǎn)生很大的應力,使得薄膜出現(xiàn)均勻的細微裂紋.用胡克定律估算了其應力范圍,約104MPa數(shù)量級.

作 者：   作者單位：   刊 名： 真空科學與技術學報  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2004 24(z1)  分類號： O484.2  關鍵詞： Fe/Mo多層膜   微結(jié)構(gòu)   應力  

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